塑膠（jiāo）電鍍工藝幹貨分享

一、光鉻的目的：

 

1、因鉻層的惰（duò）性比較強，質極硬，耐腐蝕。因（yīn）此通常作為電鍍（dù）層的最外表（biǎo）層（功能性鍍層（céng）/裝飾性鍍（dù）層（céng））。

 

2、因鉻的物理性能極硬，耐（nài）腐蝕。因此也通常應用於模具鍍鉻（鍍硬鉻）。

 

二、光鉻的電鍍原理：

 

光（guāng）鉻的鍍液主要是由鉻酸酐提（tí）供鉻（gè）離子（zǐ），以及在硫酸（suān）作為催化（huà）劑作用下，通電（diàn）形成的電（diàn）鍍鉻。

 

陽極反應（yīng）：

2H2O - 4e = O2 + 4 H+

2Cr3+ + 6H2O – 6e = 2CrO3 + 12H+

Pb + 2H2O – 4e = PbO2 + 4H+

 

陰極反應（yīng）：

Cr6+ + 6e = Cr

2 H+ + 2e = H2

 

三（sān）、注意事項：

 

 

1、鉻條是（shì）不能用（yòng）來作為（wéi）陽極使（shǐ）用的，除鉻的物理性質而無法加工外還存（cún）在鉻陽極將以大約100%的陰極效率溶（róng）解為三價鉻，增加溶液中的三價鉻含量至不能接受的極限；

 

2、盡管（guǎn）純鉛被許多“換向掛鍍”電鍍業者所采用，但是更好的腐蝕的陽極材料是鉛錫或鉛銻（tī）合金（錫或銻5-10%）；

 

3、關鍵注意控製光鎳缸的光（guāng）劑含量，一定要保持在中下限便於套鉻；

 

4、特別注意：當鉻酸和硫酸根（gēn）濃度（dù）變化時，鉻酸/硫酸的（de）比值仍維持在100：1或（huò）200：1的範圍；

 

5、硫酸根除了在自調節溶液外（wài），幾乎（hū）都是由硫酸帶入（rù）。硫酸不消耗，僅僅隻是帶出損耗；

 

6、為克服電流密度偏差問題，常使（shǐ）用輔助陽極（jí）或者輔助陰極；

 

7、鍍鉻溶液對（duì）氯（lǜ）離（lí）子非常敏感，因此一定要注意鍍鉻前的水洗。

 

四、光鉻常見異常分析及處理：

 

 

1、燒（shāo）焦：

a、電流（liú）密度太大；

b、鎳層鈍化；

c、假燒（shāo）：光鎳添加劑太多；

d、產品結構複雜（zá），需做專用掛（guà）具或象形（xíng）陽極；

e、三價鉻含（hán）量（liàng）太低或太高；

f、雜質影（yǐng）響（特別是（shì）硝（xiāo）酸根的影響）；

g、鍍液溶度異（yì）常。

 

2、深鍍能力差，低區（qū）/凹處不上（shàng）鉻（發黃）：

a、電流密度太小；

b、光鎳（niè）的PH值太高；

c、三價鉻含量過（guò）多；

d、硫酸含量太高；

e、陽極異常；

f、掛位擊穿（掛具導電效果不好或承載電流（liú）太小，低區鍍層太薄等）；

g、雜質影（yǐng）響。

 

3、結合力不好（脫皮）：

a、掛具導電不良或二次導電；

b、雙極（jí）性現（xiàn）象造成；

c、鍍層鈍化；

d、有機物汙染；

e、水（shuǐ）洗缸異常。

 

4、鍍層起彩：

a、硫酸含量太低；

b、掛具導電不良；

c、入槽電流太小；

d、溫度太（tài）高。

 

5、掛（guà）印明（míng）顯或掛印發黑：

a、鍍鉻前異常；

b、掛點太粗；

c、鍍液濃度太低。

 

6、鹽（yán）霧（wù）測（cè）試性能NG：

a、半光鎳（niè）的硫汙染或電位差太小等；

b、有機物汙染；

c、鎳層脆性太大；

d、鍍鉻電流太大造成鉻微（wēi）裂紋。

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